設備機器 詳細

高真空蒸着装置

設備機器概要
利用状況 依頼試験のみ
対応分野
  • 電気・電子
使用目的
  • 試作・加工
メーカー
型式・番号
導入年度 1999年度
ポイント・仕様 基板ホルダ:□50mm
真空度:10-6Torr
抵抗加熱・電子ビーム方式
用途 薄膜作成
活用事例
利用上の注意
使用料(県内)円/時間
使用料(県外)円/時間
設置場所(所属名) 産業技術研究開発センター
担当機関 機械電子研究所
郵便番号 〒930-0866
所在地 富山県富山市高田383番地
TEL 076-433-5466
FAX 076-433-5472
備考