MONOZUKURI フォトマスク作製システム
標準フォトレジストやエマルジョンの露光をレーザービームにより行い、主に半導体製造プロセスで用いるフォトマスクを作製する。
| 利用状況 | 設備利用・予約可 |
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| 対応分野 |
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| 使用目的 |
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| メーカー | (株)日本レーザー |
| 型式・番号 | DWL66 |
| 導入年度 | 2001年度 |
| ポイント・仕様 |
描画方式：ラスタースキャン 最小線幅：0.8μm 使用可能データファイル：DXF，Gerber，GDS2 |
| 用途 | センサの回路パターン等を形成したフォトマスクを作製 |
| 活用事例 | |
| 利用上の注意 | ガス等原材料費の実費を別途徴収します。 |
| 使用料（県内）円/時間 | 2880 |
| 使用料（県外）円/時間 | 4320 |
| 設置場所（所属名） | 産業技術研究開発センター |
| 担当機関 | ものづくり研究開発センター |
| 郵便番号 | 〒933-0981 |
| 所在地 | 富山県高岡市二上町150 |
| TEL | 0766-21-2121 |
| FAX | 0766-21-2402 |
| 備考 |