設備機器 詳細

プラズマCVD装置

設備機器概要
利用状況 設備利用・予約可
対応分野
  • 加工
  • 電気・電子
使用目的
  • 試作・加工
メーカー サムコインターナショナル(株)
型式・番号
導入年度 2000年度
ポイント・仕様 膜の種類:SiO2
薄膜材料:TEOS、NH3
用途 酸化シリコン膜の形成
活用事例
利用上の注意
使用料(県内)円/時間 1290
使用料(県外)円/時間 1930
設置場所(所属名) 産業技術研究開発センター
担当機関 ものづくり研究開発センター
郵便番号 〒933-0981
所在地 富山県高岡市二上町150
TEL 0766-21-2121
FAX 0766-21-2402
備考 ガス等原材料費の実費を別途徴収します。