MONOZUKURI マグネトロンスパッタ装置
誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタにより、ターゲット基板間距離を離し、高品位な薄膜を作製
| 利用状況 | 設備利用・予約可 |
|---|---|
| 対応分野 |
|
| 使用目的 |
|
| メーカー | 日本真空技術 |
| 型式・番号 | MPS-4000HC |
| 導入年度 | 1999年度 |
| ポイント・仕様 |
スパッタ方式：誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ カソード－基板間距離：150～200mm 基板加熱：最高500℃ |
| 用途 | プラズマが基板に照射されない状態で精密な薄膜を作製 |
| 活用事例 | |
| 利用上の注意 | |
| 使用料（県内）円/時間 | |
| 使用料（県外）円/時間 | |
| 設置場所（所属名） | 産業技術研究開発センター |
| 担当機関 | ものづくり研究開発センター |
| 郵便番号 | 〒933-0981 |
| 所在地 | 富山県高岡市二上町150 |
| TEL | 0766-21-2121 |
| FAX | 0766-21-2402 |
| 備考 |