設備機器 詳細

マグネトロンスパッタ装置

誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタにより、ターゲット基板間距離を離し、高品位な薄膜を作製

設備機器概要
利用状況 設備利用・予約可
対応分野
  • 加工
使用目的
  • 試作・加工
メーカー 日本真空技術
型式・番号 MPS-4000HC
導入年度 1999年度
ポイント・仕様 スパッタ方式:誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ
カソード-基板間距離:150~200mm
基板加熱:最高500℃
用途 プラズマが基板に照射されない状態で精密な薄膜を作製
活用事例
利用上の注意
使用料(県内)円/時間
使用料(県外)円/時間
設置場所(所属名) 産業技術研究開発センター
担当機関 ものづくり研究開発センター
郵便番号 〒933-0981
所在地 富山県高岡市二上町150
TEL 0766-21-2121
FAX 0766-21-2402
備考